> 제품소개 > 반도체 장비 > WET
WET PE CVD Barrier METAL
Wet 세정. Etching 장비사업
Wet Clean Station (W/F세정기) Auto / Manual
Metal Gtade Wet STN [NanoFab]
  • Configulation
  • · Water Size: 8” (25매 / 1Carrier)
  • · Load Port : Manual Stage
  • · Chemical Bath Module
  • > SPM / APM / H.QDR / Solvent / IR / Dry
  • > Material : Quartz, Teflon
  • > 8eaBath, FST(Malangoni Dry)
  • · Chemical Supply & Mixing Module
  • > H2SO4/H2O2/NH4OH/Solvent/IPA
  • > 약액온도, 유량, 혼합비관리
  • · Pump Circulation Type
  • > 30LPM, 0.1um Filter
  • · 자동소화장치 Module
  • · Feature
  • · Dimension: 4550W x 3250D x 2100H FootPrint: 14.8M2
  • · Power : AC220V 3Phase 200A
  • · Particle & Contamination
      : Particle, Matalic & Organic 오염 Water Marks
  • · PLC & PC Operation Control CUI(PC) Process & Recipe 관리
  • · Environmental, Safety & Health
  • · S마크 인증
Auto Wet STN
  • Configulation
  • · Water Size: 6” & 8” (25매 / 1Carrier)
  • · Load Port : Auto / Manual Stage
  • · Chemical Bath Module
  • > Bath(MSA)/Pre Clean/Rinse/Dry
  • > Material: Teflon
  • > 4eaBath, FST(Malangoni Dry)
  • · Chemical Supply & Mixing Module
  • > Bottle -> Measing -> Mixing -> Local
  • > Pump Circulation Type
  • · Carrier Type Robot Module
  • · PLC & PC등 Operation Module
  • · 자동소화장치 Module
  • Feature
  • · Dimension: 2770W x 1250D x 2800H 2100H FootPrint: 3.5M2
  • · Power : AC220V 3Phase 50A
  • · Robot [3Axis Control]
      : Chuck, Up / Down, 주행축
      Agitation 기능
      비저항 control
  • · PLC Basic Control CUI(PC) Process & Recipe 관리
  • · Environmental, Safety & Health
Wet 세정. Etching 장비사업
Manual Wet Station(12Bath): LED / 반도체 공정에서 각종 Chemical 을 이용 Etching 및 세정을 할 수 있는 장치.
본 설비는 12개의 bath에서 각종 Chemical(EKC, ACE, BOE, ITO, DI, SPM...) 을 투입 2”, 4”, 6” 까지의 Wafer를 처리할 수 있음
Auto De-Cap Station
本 설비는 반도체, LED, LCD등 최첨단 산업에서 생산하는 Mold된 Chip등의 Housing을 벗겨 이상 유무를 검사할 시에 사용됩니다.
Mold된 Housing을 각종 Chemical 등을 이용하여 자동으로 벗겨지게 하였으며, User의 안전을 최고로 우선하여 설계, 제작된 Auto De-cap Station 입니다.
세정장비 사업
Tube Cleaner: 반도체 공정에서 Diff . 공정의 Furnace 설비에 사용되는 Quartz Tube 및 Boat를 각종 Chemical을 이용, 세정을 할 수 있는 장치 본 설비는 3개의 bath에서 각종 Chemical을 (불신, 황산…) 이용하여 12” Wafer에 대응하는 Tube 및 Boat를 세정하는 장비 임.
Wet 세정. Etcching 장비 사업
PVC CLEANER
반도체, 평판디스플레이, 파운드리 산업의 Wet 세정 및 식각용 장비.
PVC등 엔지니어링 플라스틱을 소재로 한 Wafer/부품 세정, Wafer 식각, 약액 공급장치 등 제작 전문 업체
WAFER 세정장비 개조개선
반도체 및 소재(Wafer) 관련 산업에서 Sillicon Wafer등을 세정하기 위한 장비
Loader, 유기 & Rinse조. WF Transfer Robot, Dryer, Unloader까지 구성된 장비로 개조개선등 가능